DHPS系列直流溅射等离子体实验装置 装置采用同轴二极溅射结构，靶台和靶距离可调节，溅射基片可进行控温加热； 溅射气压、溅射气源流量可调节，可研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响 ；反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象；工作气体可调节更换， 并可多路气体混合工作。可以完成光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量、金 属薄膜的制备等实验。 主要实验内容： ◆光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量； ◆金属薄膜的制备实验； ◆理解直流溅射原理，掌握直流溅射薄膜材料的工艺方法。 主要技术特点： ◆溅射靶台和溅射靶距离可调节，研究在不同距离时对薄膜溅射的影响； ◆溅射基片可进行加热，加热温度可控，研究基片温度对薄膜溅射的影响； ◆溅射气压、溅射气源流量可调节，研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响 ◆反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象； ◆供电电源：AC 220V，50 Hz。