钼管靶供应商

钼管靶(钨管靶)

      应用原理:溅射是一种先进的薄膜材料制备技术，它利用离子源

产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子

和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米或微米薄膜。上述 用溅射法沉积薄膜的被

轰击的固体，称为溅射靶材。

      应用领域:纯钼或钼合金可以在各类基材上形成薄膜。因此广泛

应用于电子及信息产业。如目前广泛应用的TFT-LCD(薄膜半导体管-

液晶显示器)、等离子显示屏、无机发光二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能光伏电池、传感器、半导体装置和具有可调谐功函数

CMOS (互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。