电解抛光过程

　　通电后，在被抛光金属表面上形成一层极化膜，使金属离子通过这层薄旗扩散，表面上的显微及宏观的凸点或粗糙处的高点及毛刺区的电流密度比表面其余部分大，并以较快的速度溶解，从而达到整平和去毛刺的目的。通过延长抛光时间、提高抛光温度和电流密度可得到光亮的表面。　　电解抛光后的表面光洁度主要由抛光前的表面质量和光洁度决定。缎状表面抛光成光亮表面是由时间、温度、电流密度所控制，这三种因素的组合，会产生低反射或缎状表面，采用延长时间、提高温度或增加电流密度可获得光亮表面。　　阴极释放氢，阳极释入氧，对解释表面钝化及在一定程度上改善耐腐蚀性不够全面，与电镀不同，电解抛光不存在氢脆。　　为获得良好的抛光效果，电流密度和电压是紧密相关的。通常,电压升高电流密度随之增大，但这一现象只会继续到一个临界点，一旦达到这一点，电流密度将急速下降，电压仍相应增 高，超过这一点，电压和电流密度又稳步增长，电解抛光只有在电流密度比临界点高时才会发生，低于这一点则出现腐蚀，通常电解抛光使用直流电，在5.5一55.SA/dm2产生。　　电地光对金属的溶解极少，抛光后的表面情况及抛光后的表面精饰处理来看，抛光厚度通常在2.5~65μm之间。深划痕、冲压记号及金属中的非金属夹杂物往往比电解抛光失去的厚度深，杂乱的颗粒线和深深的划痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除，而电解抛光可将它们去除，这些线和刻痕最初是肉眼看不见的，电解抛光是一项较快的操作，通常在2~12分钟内完成，但如果从粗糙表面开始或必须去除较大量的金属(如控制尺寸或去毛刺)，则将会需要更长的时间。