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武汉嘉仪通科技有限公司

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武汉快速退火炉的使用注意事项有哪些?

发布时间:2022-10-14

快速退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的 效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜 ,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶 圆衬底。它可以集成到其他炉子处理步骤中,例如氧化,或者可以自己处理。它是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完 成的。它是节能型周期式作业炉,超节能结构,采用纤维结构,节电60%。热处理炉分为退火炉、淬火炉、回火炉、正火炉、调质炉,主要用于大型碳钢、合金钢零件的退火;表面淬火件回 火;焊件应力退火、时效等热处理工艺。加热方式有电加热、燃油、燃气、燃煤、热风循环。它是一种新型换 热设备。

快速退火炉能够细化晶粒,改善组织,提高工件的力学性能。

武汉嘉仪通科技有限公司依托科研共享平台的大数据分析,为全球用户的薄膜技术研究及战略方向提供理论依据与数据支撑。

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