你真的了解真空镀膜

真空镀膜技术是气相物理沉积的方法之一，也称为真空镀膜。在真空条件下，用蒸发器加热涂料使其升华，然后将蒸发的颗粒流直接喷到基材上，并在基材表面上沉积固体膜。

真空镀膜被广泛使用，例如真空镀铝，在塑料和其他基材上进行真空镀膜，然后进行不同颜色的染色，可用于家具，手工艺品，照明，钟表，玩具，汽车灯具，镜子和软包装材料 在其他产品的制造中，装饰效果非常好。真空镀膜产品不仅亮度高，质地细腻逼真，而且生产成本低廉，有利于环境保护，受基材材料的限制较少。 它越来越多地应用于化妆品外壳的表面处理。

真空镀膜工艺仅意味着在电场的作用下，电子在加速和飞行过程中与氩原子发生碰撞，使大量的氩离子和电子电离，而电子则飞行到衬底上。氩离子在电场的作用下加速靶的轰击，溅射大量靶原子，并且中性靶原子（或分子）沉积在基板上以形成膜。

然而，在实际的辉光放电DC溅射系统中，由于在这种条件下电离碰撞不足，因此难以在小于1.3Pa的条件下维持自持放电。因此，对于在低于1.3至2.7Pa的压力下操作的溅射系统而言，改善电离碰撞特别重要。改善电离碰撞的方法不是由额外的电子源提供，而是由阴极发出的二次电子提供；或者通过使用高频放电装置或施加磁场来提高现有电子的电离效率。

实际上，真空镀膜中的二次电子在加速和飞向基板的过程中会受到磁场的洛伦磁力的影响，并被捕获在靠近目标表面的等离子体区域中。该区域中的等离子体密度非常高。在磁场的作用下，电子围绕目标表面绕圆周运动。电子有很长的运动路径。在运动过程中，它不断与氩原子碰撞并电离大量的氩离子以轰击目标。经过多次碰撞，电子能量逐渐降低，摆脱了磁力线的约束，远离靶材，沉积在基板上。这就是真空镀膜技术的作用过程。