金皖真空泵厂家在半导体行业真空泵应用效果

金皖真空泵厂家在半导体行业真空泵应用效果 半导体行业中的电子加速、光电器件、电子材料、射线管、晶振、继电器、激光、离子注入设备、离子刻蚀机、化学气相沉积设备、物理气相沉积设备、分子束外延设备、集成电路封装、其他半导体应用设备等。均在蒸发，溅射，PECVD，真空干法刻蚀，真空吸附，测试设备，机械手，自动化真空清扫等等键合工序里所需用真空为（中高真空）；清扫真空（粗真空）；工艺真空（粗真空）。部分还有要求真空泵向被抽空间内的返流为零，以保护工件免受污染。   半导体真空泵是半导体各工艺制程环节必备的通用设备。半导体产业链主要分为IC设计、晶圆制造和芯片封测三大环节。一般来说晶圆制造可以细分为前道和后道两个工艺步骤。前道工艺是将硅材料加工制造成晶圆片，通过光刻机曝光等多道工序将IC设计图案加载到晶圆上，制成集成电路；后道工艺是将载有集成电路的晶圆分割成基本单元，通过封装、测试后制成最终的集成电路产品，半导体真空泵可广泛应用于晶圆制造过程中的单晶拉晶、LL、Etching、CVD、ALD、封裝、测试等清洁或严苛制程。   一、半导体行业真空系统要求 半导体生产制造过程中容易产生易燃易爆以及有毒的物质气体，会对生产及人员安全造成威胁，电子半导体行业要求真空系统大体分为三个等级。 1、清洁条件下的抽气，只抽干空气或含少许水蒸气的空气。 2、中等条件下的抽气，抽除工艺过程的反应气体，但无固体颗粒物。 3、恶劣条件下的抽气，抽除化学反应物（有毒甚至致癌）及固体颗粒物。     二、半导体的真空泵应用部分   生产用真空主要通过高真空使工作空间空气减少，保持工作空间的洁净，主要使用的真空泵类型包括干泵（干式螺杆真空泵、爪式泵）和分子泵及其机组。生产用真空设备在数量上较大，单机功率较小。   清扫真空主要利用负压与大气压差进行液体或颗粒的清除或输送，此类应用主要采用水环泵和多级离心风机，因为真空度低所以更多的是采用多级离心风机，真空源是其系统的一部分。   工艺真空主要利用负压吸附进行工件搬运或夹持，螺杆泵、爪式泵等干泵以及水环泵、旋片泵、微油螺杆泵都是工艺真空中常见的真空设备。   三、半导体真空泵行业特点 半导体用真空泵对产品可靠性、定制化、能源效率要求较高。 1.可靠性：半导体用真空泵直接关系到芯片的性能、良率，对产品可靠性有较高要求，工作过程需要不断保养，可靠性高的产品能减少维修次数，降低客户使用成本。 2.定制化：在半导体制造领域，由于每条生产线工况都不相同，客户对解决方案和产品的需求更加定制化。 3.能源效率：在Fab能源消耗中，真空产品占整个能源消耗的20%，提高能源效率能够减少客户的能源消耗。