设备机架制作中抛光工艺原理及分类

　设备机架制作中抛光工艺是利用物理机械或化学物质来降低表面粗糙度的工艺。抛光技术主要应用于精密机械和光学行业。抛光后的工件表面光滑，反光好。抛光后工件厚度降低，容易划伤，表面需要用专用清洗剂清洗。

　　一、设备机架制作中抛光工艺原理

　　设备机架制作化学抛光原理

　　化学抛光是通过有规律的溶解来抛光金属表面的过程。在化学抛光过程中，钢件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜，前者比后者更强。由于表面微观结构的不一致性，表面的凸面部分优先溶解，且溶解速率高于凹面部分。此外，溶膜和成膜总是在同一时间进行，但速度不同。因此，钢件的表面粗糙度可以被拉平，从而获得光滑明亮的表面。抛光可以填补表面气孔、划痕等表面缺陷，提高抗疲劳和耐腐蚀能力。

　　设备机架制作电化学抛光原理

　　电化学抛光又称电解抛光。电解抛光是将工件抛作阳极，不溶金属作阴极，两极同时浸入电解池中，通过直流电产生选择性阳极溶解，使工件表面亮度增加，达到镜面效果。

　　二、设备机架制作中抛光工艺分类

　　设备机架制作机械抛光

　　机械切削、抛光是依靠材料表面塑性变形去除后通过抛光去除凸面部分的光滑表面的方法，常用的物品有油石、毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如固体表面的旋转，可以使用转台等工具，表面质量高的可采用超研磨法。超精抛光是利用专用研磨工具，含有研磨抛光液，压在工件表面进行加工，进行高速旋转运动。采用该工艺可获得Ra0.008μm的表面粗糙度，是所有抛光方法中表面粗糙度高。这种方法常用于光学透镜模具。其优点是平整性好，被加工零件亮度高。

　　设备机架制作化学抛光

　　化学抛光是让材料在化学介质表面的微观凸部分优先溶解凹部分，从而获得光滑表面。该方法的主要优点是不需要复杂的设备，可以抛光复杂形状的工件，可以同时抛光多个工件，效率高。其优点是加工设备投资少，复杂件可抛，速度快，效率高，耐腐蚀性好。

　　设备机架制作电解抛光

　　电解抛光的基本原理与化学抛光相同，都是通过选择性溶解材料表面微小突起的部分，使表面光滑。电化学抛光过程分为两个步骤:(1)宏观平整溶解产物扩散到电解液中，材料表面变得粗糙而减少，Ra>1微米。(2)弱光阳极化，表面亮度增加，Ra<1微米。其优点是镜面光泽度长，工艺稳定，污染少，成本低，耐腐蚀性好。