选择Uv电镀技术有什么优势特点？

真空uv电镀具有以下优点： （1.沉积材料广泛：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系（2.节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的（3.无环境污染：由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小。

UV真空镀膜具有许多优点：  1，选择的涂层数据大于数据熔点约束。因此，除了常见的锌、铝、锡和镀锌外，几乎所有的金属材料都能沉积，金属氮化物薄膜被镀上金属氧化物薄膜和许多品种。金属碳化物及各种复合薄膜。这为发展新型带材提供了很大的自由度。  2，涂层材料利用率高，环境污染小。真空镀膜属于无有害液体或气体的干式涂料。  3、带钢涂布质量好，镀层光滑均匀，镀层薄，纯度高，附着力好，耐腐蚀。钢带在涂敷前可以用电子束预热，表面被激活。该镀层纯度高，无硬脆合金层。它可以被压入一个小管而不会从涂层中脱落。  4、技术灵敏灵敏，便于更换品种，根据商品对带材的敏感要求，单面和双面单层和多层，并结合两种数据可达到混合镀膜。镀层厚度易于控制，可镀超薄。

专业真空UV电镀材料技术与湿式镀膜材料技术相比具有明显优势：1、膜材和基体选材广泛，膜的厚度可以进行控制以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。2、真空条件下制备薄膜，环境清洁，膜不易受到污染，因此，可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。3、与基体附着强度好，膜层牢固。4、真空UV电镀生产厂家既不产生肺液也无环境污染。真空镀膜技术在电子学等方面主要用来制造电阻和电容元件。用真空镀膜代替电久工艺，不但能节省大量的膜材和降低能耗，而且还会消除湿法镀膜中所产生的污染。