多弧离子真空镀膜机有哪些特点？

多弧离子真空镀膜机的电弧蒸发源原理是通过一个冷阴极自持电弧放电，是一种场致发射。蒸发源的典型的基本配置为：受镀基材与阴极相接，阳极接真空室，待真空室抽到到高些的真空状态、触发电极启动器接触打开，形成一个稳定的电弧放电于阳极和阴极之间。而在阴极的表面覆盖有很多快速移动的阴极斑，斑直径在1μm到两微米之间，还有直径约10μm的光斑，有每秒移动几十米的速度，电流之间密度为10 A/cm-10 A/cm，极间电压也降低到20V-40V之间。所谓多弧离子真空镀膜机就是用多个电弧蒸发源为核心的一种离子镀膜设备，通常又叫多弧镀膜、弧镀、电弧镀膜等。相较于其他镀膜工艺，它具备的特点有：机械整体简单、设备生产效率高、工作周期短、适合大批量的工业化生产。较大的镀膜空间。 电弧蒸发源为固态，可灵活放置，所以工件在装卡更换时更加简单，无需附加加热器使用。

相较于传统的蒸发源，多弧离子镀膜机的电弧蒸发源的特点明显：镀膜膜层致密度高，膜层寿命长、强度高；作为固体型的电弧蒸发源，可改变其形状、大小及位置。

多弧离子真空镀膜机广泛应用于工具、模具的超硬涂层，高尔夫球具、钟表、卫浴洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品、陶瓷和玻璃等的装饰涂层等领域，深受人们喜欢和市场欢迎。多弧离子真空镀膜机的核心技术是它的电弧蒸发源，多弧离子镀膜机的蒸发源是一种比较特殊的冷阴极电弧放电的自蒸发、自电离式的一种固体型蒸发源。多弧离子真空镀膜机是一种高效、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。