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北京镀膜机用高纯度二氧化硅溅射靶材供应商Sio2溅射靶材 纯度:二氧化硅99.95% ~ 99.9999% 种类:颗粒、毛坯、基片、环形靶、方砖; 特点:
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河南溅射靶材公司溅射是一种先进的薄膜材料制备技术, 它利用离子源产生的离子, 在真空中加速聚集成高速离子流, 轰击固体表面, 离子和固体表面的原子发生动能交换,
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磁控溅射靶材公司溅射是一种先进的薄膜材料制备技术, 它利用离子源产生的离子, 在真空中加速聚集成高速离子流, 轰击固体表面, 离子和固体表面的原子发生动能交换,
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我们的产品品质控制非常严格,从原材料采购,生产制作,包装检验,每一步都严格控制,确保品质。我们热切希望通过我们的努力能更快更好地推动贵单位的发展。
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