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泡沫清洗是一种先进的设备外表面清洗方式，清洁剂以泡沫的形式喷到设备表面，粘稠的泡沫可以在设备表面停留较长时间，以便与污垢充分接触、浸润和反应，从而提高了清洗效果

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DX-25是一种可以在工作现场直接清洗电器设备、精密机械及器具的、节能、安全、可靠的清洗剂。

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  自动去胶清洗设备，用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜，也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。

单晶圆腐蚀清洗设备，可广泛应用于刻蚀、剥离、化学减薄、显影、去胶、材料清洗等湿法工艺，采用单晶圆处理方式，具有均匀性好，工艺可控性高等特点。   &n

全自动刷片清洗设备，用于硅片、蓝宝石片等材料片的清洗工艺。该设备利用刷洗的方式，对切、磨、抛后的晶圆进行清洗。    

多晶硅硅芯清洗设备该设备主要用于硅芯、母料、区熔料、横梁等棒状料的清洗。采用龙门机械手自动抓取PVDF料笼，依次完成腐蚀、冲洗、超声漂洗、烘干等工艺流程，实现清

多晶硅磁环清洗设备该设备主要用于多晶硅生产中的配套磁环的清洗。采用机械手自动抓取不锈钢花篮，依次完成碱洗、清洗、超声漂洗、切水、烘干等工艺流程，达到清洗后的硅块

在LED外延及芯片制造领域，湿法设备占据约40%的工艺，随着工艺技术的不断发展，湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备，如SPM酸清洗、有机清洗、显