去胶清洗设备中国电科45所<自动去胶清洗设备，中国电子科技集团公司第四十五研究所生产，广泛应用于湿法去除光刻胶的工艺。    去胶清洗设备中国电科45所

全自动单晶制绒清洗机中国电科45所<单晶硅太阳能电池片湿法设备主要技术特点：独特的双槽制绒工艺槽设计，分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本，多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制，机械

湿法处理设备中国电科45所<微机电系统（MEMS）是指用微机械加工技术制作的包括微传感器、微致动器、微能源等微机械基本部分以及高性能的电子集成电路组成的微机电器件与装置。四十五所研制的MEMS器

湿法刻蚀设备中国电科45所自动精密湿法刻蚀设备，可应用于硅片清洗、无图形薄膜去除（如氮化硅和钛的去除）、铝腐蚀、金刻蚀、镍刻蚀、Si刻蚀、SiO2刻蚀等工艺。    湿法刻蚀设备中

石英管清洗机中国电科45所四十五所密切跟·踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现已形成30MW和60MW两种能规模的主流生产线的设备配套能力，批次处理产能为200片，300片，400

太阳能电池清洗机中国电科45所<四十五所密切跟·踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现已形成30MW和60MW两种能规模的主流生产线的设备配套能力，批次处理产能为200片，30

太阳能光伏制造设备中国电科45所单晶硅太阳能电池片湿法设备主要技术特点：独特的双槽制绒工艺槽设计，分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本，多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制，机械传动特殊设

探针台中国电科45所探针台/中测台是对芯片制程中的电参数和功能高速高精度测试，以此判断芯片的优劣。主要适用于半导体分立器件、光电器件及集成电路芯片。可实现手动、自动、全自动测试，适用于生产线、高校及科

碳化硅切割设备中国电科45所<该设备主要适用于蓝宝石、碳化硅、人工晶体、激光晶体、硬脆金属等材料的切片加工。具有占地面积小、切料尺寸大、切割速度快、切片精度高、操作简单方便、运行稳定可靠及维护成

旋转冲洗甩干机中国电科45所<LXS系列立式旋转冲洗甩干机主要用于材料制备、太阳能电池片、分立器件等行业中晶片的冲洗干燥工艺。该产品基础成熟可靠，得到用户的广泛认可，具有极高的市场占有率。 &n

匀胶机中国电科45所<涂胶机是将光刻胶均匀的喷雾或者旋涂于晶圆表面，并可进行曝光后的显影处理。涂胶显影设备适用于LED、MEMS、声表面波、IC集成电路等行业的标准晶圆手动或者全自动匀胶显影工艺

匀胶显影设备中国电科45所<涂胶机是将光刻胶均匀的喷雾或者旋涂于晶圆表面，并可进行曝光后的显影处理。匀胶/显影设备分为轨道式和星型两种结构，涂胶显影设备适用于LED、MEMS、声表面波、分立器件

中测台中国电科45所<探针台/中测台是对芯片制程中的电参数和功能高速高精度测试，以此判断芯片的优劣。主要适用于半导体分立器件、光电器件及集成电路芯片。可实现手动、自动、全自动测试，适用于生产线、

光刻板清洗机中国电科45所<全自动光刻版（掩膜版）清洗机，用于半导体制造过程中光刻版自动清洗、及干燥工艺。该设备可有效清`除光刻版在使用过程中表面粘附的残胶、油污、颗粒等污染，大大改善光刻工艺效

金属膜剥离清洗机中国电科45所<DFQ-3100型全自动金属膜剥离机，用于声表面波（SAW）器件、GaAs微波、毫米波器件、MEMS器件、OLED器件和先进封装等制造中微细图形金属膜剥离工艺，自