全自动刷片清洗设备，用于硅片、蓝宝石片等材料片的清洗工艺。该设备利用刷洗的方式，对切、磨、抛后的晶圆进行清洗。    

   全自动单晶圆材料清洗设备，用于硅片、锗片等材料片的最终清洗工艺。    

   CDS 化学液自动供给系统，广泛应用于集成电路、半导体材料加工、LED、太阳能光伏、MEMS及分立器件等行业中湿法设备化学液自动供给，可实现溶液自动加液、补液及配液

自动精密湿法刻蚀设备，可应用于硅片清洗、无图形薄膜去除（如氮化硅和钛的去除）、铝腐蚀、金刻蚀、镍刻蚀、Si刻蚀、SiO2刻蚀等工艺。    

SFQ/SFQZ系列湿法设备广泛应用于集成电路、光电子器件、MEMS及分立器件、半导体材料加工、太阳能光伏等领域，用于各种半导体基片及类似材料制造过程中湿化学处理工艺，有手动、半自动及全自动三种配置。

  自动去胶清洗设备，用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜，也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。

四十五所密切跟踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现已形成30MW和60MW两种能规模的主流生产线的设备配套能力，批次处理产能为200片，300片，400片。目前用户分布在广东、江苏