曝光机是利用紫外线将掩膜版的图像转移到涂有光刻胶的晶圆上。该型产品适用于中小规模集成电路、半导体分立器件、声表面波器件等半导体生产线、高校及科研机构的生产制造。产品具备从小碎片到4英寸晶圆的曝光加工能
涂胶机是将光刻胶均匀的喷雾或者旋涂于晶圆表面，并可进行曝光后的显影处理。涂胶显影设备适用于LED、MEMS、声表面波、IC集成电路等行业的标准晶圆手动或者全自动匀胶显影工艺处理。 &nb
涂胶机是将光刻胶均匀的喷雾或者旋涂于晶圆表面，并可进行曝光后的显影处理。匀胶/显影设备分为轨道式和星型两种结构，涂胶显影设备适用于LED、MEMS、声表面波、分立器件、IC集成电路等行业的标准晶圆手动
探针台/中测台是对芯片制程中的电参数和功能高速高精度测试，以此判断芯片的优劣。主要适用于半导体分立器件、光电器件及集成电路芯片。可实现手动、自动、全自动测试，适用于生产线、高校及科研机构。可实现小碎片
JHQ系列激光划片机针对二极管、三极管等器件晶圆进行精密划切。具有图形对准、自动θ向旋转、正面划切、背面划切等功能。设备包括半自动机型和全自动机型。
CS-400A 超声扫描显微镜主要利用高频的超声波(5MHz以上)检测器件、材料内部的缺陷位置、大小和分布状态等，对粘接层面非常敏感，能检测出气孔、裂纹、夹杂和分层等缺陷，是以波形、图形为显
JDB系列激光打标机主要用于电子器件的金属及塑料管壳、PCB板、硅晶圆、金属材料等多种材料表面进行字符、图形、条形码、二维码等复杂图形的标刻。设备包括半自动机型和全自动机型。
该机属半自动厚膜丝网印刷机，适用于厚膜电路、LED陶瓷基板、太阳能电池片、液晶显示器、表面贴装等电子元器件的图形印刷，采用手动上下料，自动印刷。
适用于LTCC基板、HTCC、厚膜电路、太阳能电池等领域的视觉对位印刷机。设备采用手动上下片，真空吸附基片，自动涂墨、印刷、脱网，设备采用基于工控机的控制系统，可操作性好，便于工艺参数的设置及存储。
CXS系列旋转冲洗甩干机主要用于硅圆片、光刻版等类似材料的高洁净度冲洗及干燥工艺，适用于2-12英寸晶圆，LXS系列旋转冲洗甩干机主要用于材料加工、太阳能电池片、分立器件等行业、单台产量大、效率高。
四十五所第二设备事业部是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位，多年来与众多的集成电路生产企业密切合作，研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备。主要机型有：双面擦片机、氧化硅/氮化硅刻蚀
